CVD、PVDなどの成膜装置やアニール装置のプロセス中のウエハ状態監視
半導体
傾き角度測定
公開日：2026年06月01日
プロセス中にウエハの挙動の監視が必要ですが、真空チャンバー内にセンサを配置することは困難であるため、ビューポート越しで測定する事例です。
| 従来の問題点 | プロセス中の温度の影響などによるウエハ反りの状態確認が必要ですが、良い確認方法が見つかりませんでした。 |
|---|---|
| 解決提案 | Smart LACはビューポート越しにウエハへレーザを出射し、反射光をLACに入射する事でウエハの挙動を角度として測定できます。ガラスからの反射は消す事ができ、プロセス中の状態監視が簡単、安価に実現できます。 |
